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    13D封装中硅通孔互连技术的热-机械应力分析肖明(指导教师:杨道国教授)23D封装中硅通孔互机械应力3D封装中硅通孔互机械应力热稳态分析温度循环分析温度冲击分析展望谢辞TSV介绍3D封装随着电子制造产业的特征尺寸下降到20nm甚至更低,为了在一定尺寸的芯片上实现更多的功能,同时防止高密度下2D封装的长程互连造成的RC延迟,研究者们把目光投向了Z方向封装——3D封装。3D封装类型33D封装中硅通孔互机械应力3D封装中硅通孔互机械应...

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  • 超大规模集成电路铜互连电镀工艺[共4页]

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    超大规模集成电路铜互连电镀工艺摘要:介绍了集成电路铜互连双嵌入式工艺和电镀铜的原理;有机添加剂在电镀铜中的重要作用及对添加剂含量的监测技术;脉冲电镀和化学电镀在铜互连技术中的应用;以及铜互连电镀工艺的发展动态。关键词:集成电路,铜互连,电镀,阻挡层1.双嵌入式铜互连工艺随着芯片集成度的不断提高,铜已经取代铝成为超大规模集成电路制造中的主流互连技术。作为铝的替代物,铜导线可以降低互连阻抗,降低功耗和成本,提高...

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