标签“沉积”的相关文档,共29条
  • 3.2-熔融沉积成型技术的工艺流程

    3.2-熔融沉积成型技术的工艺流程

    模块三熔融堆积成型3.2熔融沉积成型技术的工艺流程课堂导入如果让你自己建模一组茶具样品模型,你会做吗?打算怎么做?想一想本节知识点FDM的工艺流程概况1主流的三维设计软件有哪些2如何获得模型STL格式34如何设置打印参数5FDM的成型过程67FDM的后处理如何进行切片处理FDM的工艺流程图建立三维实体模型STL文件数据转换分层切片加入支撑逐层熔融沉积制造三维模型成型后处理Autodesk123D是一套适用于普通用户的建模软件,可以通过...

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  • 电化学沉积

    电化学沉积

    .金属电沉积理论一.争论概况在电化学中,金属的电化学沉积学是一种最古老的学科。在电场的作用下,金属的电沉积发生在电极和电解质溶液的界面上,沉积过程含有相的形成现象。首先,在金属的电化学沉积试验的争论时间要追溯到19世纪,并且在引进能产生直流电的电源以后,电镀很快成为一种重要的技术。电镀被用来制造各种不同的装饰性和功能性的产品,尽管在开头的早期,电镀技术的进展和应用建立是在阅历的根底上。金属电沉积的根...

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  • 硫酸锌溶液的电解沉积讲义

    硫酸锌溶液的电解沉积讲义

    硫酸锌溶液的电解沉积原理〔1〕概述硫酸锌溶液的电解沉积是湿法炼锌流程中四个重要工序中的最终一个。其目的主要是从硫酸锌溶液中提取纯度高的金属锌。电积的技术经济指标不仅反映出整个炼锌工艺的好坏,而且因直接消耗大量电能,在很大程度上影响着电锌厂的生产本钱。硫酸锌溶液的电解沉积是湿法炼钟的最终一个生产工序。其目的主要是从硫酸锌溶液中提取纯度高的金属锌。硫酸锌溶液电解沉积就是:以净化的硫酸锌溶液作电解液,...

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  • 教案表面技术概论气相沉积技术

    教案表面技术概论气相沉积技术

    授课学时:3学时章节名称教学目的和要求重点难点第八章气相沉积技术备注通过本章学习,把握物理气相沉积和化学气相沉积的根本原理与工艺方法,了解各类不同的气相沉积工艺和材料的适用范围。课程重点内容(1)物理气相沉积典型的工艺技术及涂层类型和特点;(2)化学气相沉积及其特点。教学方法教学手段教学进程设计〔含教学内容、教学设计、时间安排等〕1、教学方法:课堂讲授法为主;用精讲的方法突出重点,用分析证明、分类...

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  • 物理气相沉积设备配置和技术指标

    物理气相沉积设备配置和技术指标

    物理气相沉积设备配置和技术指标功能:用于各类薄膜和器件的争论。承受四靶共聚焦模式沉积薄膜,具有薄膜在线刻蚀功能。系统概述:可用于高性能的各种薄膜材料沉积、纳米材料沉积等,是信息存储、显示器件、传感器件、微电子和光电子器件、半导体集成电路、硬质镀膜等的关键设备。高真空获得、气体流量及电控等分系统承受了整体掌握的模式,使得系统本钱大幅降低。因承受高性能的部件和单元,是等离子体处理过程中的准确性、牢...

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  • 沉积岩石学沉积岩实验指导书

    沉积岩石学沉积岩实验指导书

    沉积岩石学》试验指导书专业班级:地质工程2023-2姓名:学号:Indoingwelearn---实践出真知。第0页共37页试验一沉积构造的观看描述一、目的要求1、生疏各种类型沉积构造的一般特征;2、学会沉积构造观看、描述〔包括素描〕的内容及方法;3、以沉积构造的鉴别标志为依据,分析、推断其成因及形成环境;4、利用〔某些〕沉积构造确定岩层的顶底。二、试验内容观看以下沉积构造标本:水平层理、穿插层理、脉状及透镜状层理、韵律...

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  • 水土流失沉积与扬尘控制方案参考范例一

    水土流失沉积与扬尘控制方案参考范例一

    〔施工现场总平环境保护方案1、工程概况本工程..2、编制目的记录水土流失掌握措施,供给现场水土流失掌握措施的照片和说明,并对重要环境因素和与之相关的运行与活动进展掌握,预防和削减对环境的污染3、治理职责3.1工程经理职责负责对工程部范围内环境污染预防与治理的统一组织、领导、筹划、总结、推广工作。3.2技术负责人职责负责编制并指导本方案的实施4、具体实施要求(1)掌握水土流失,防止泥沙沉积和防止施工扬尘的措施...

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  • 化学气相沉积

    化学气相沉积

    c第五章化学气相沉积化学气相沉积是一种化学气相生长法,简称CVD〔ChemicalVaporDeposition〕技术。这种方法是把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物的单质气体供给基片,利用加热、等离子体、紫外光乃至激光等能源,借助气相作用或在基片外表的化学反响〔热分解或化学合成〕生成要求的薄膜。这种化学制膜方法完全不同于物理气相沉积法〔PVD〕,后者是利用蒸镀材料或溅射材料来制备薄膜的。但最近消灭了兼备化学气相沉积和物理...

    2024-03-280279.76 KB0
  • 05化学气相沉积

    05化学气相沉积

    c第五章化学气相沉积化学气相沉积是一种化学气相生长法,简称CVD〔ChemicalVaporDeposition〕技术。这种方法是把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物的单质气体供给基片,利用加热、等离子体、紫外光乃至激光等能源,借助气相作用或在基片外表的化学反响〔热分解或化学合成〕生成要求的薄膜。这种化学制膜方法完全不同于物理气相沉积法〔PVD〕,后者是利用蒸镀材料或溅射材料来制备薄膜的。但最近消灭了兼备化学气相沉积和物理...

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